База данных: IPR База
Страница 1, Результатов: 5
Отмеченные записи: 0
1.
Подробнее
148520
Тимофеев, И. В.
Коллективные явления в плазме. Курс лекций : учебное пособие / Тимофеев И. В. - Новосибирск : Новосибирский государственный университет, 2024. - 78 с. - ISBN 978-5-4437-1627-5 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
ББК 22.333
Кл.слова (ненормированные):
волновые процессы -- дисперсионное отношение -- замагниченная плазма -- квазилинейная теория -- кинетическое уравнение -- колебания -- коллективные явления -- незамагниченная плазма
Аннотация: Пособие содержит конспект лекций по курсу «Коллективные явления в плазме», читаемого студентам 4-го курса кафедры физики плазмы Новосибирского государственного университета. Спецкурс предполагает знакомство слушателей с программой предшествующих теоретических курсов кафедры – «Введение в физику плазмы» и «Магнитная гидродинамика», а также опирается на материалы курсов «Физика сплошных сред» и «Электродинамика» ФФ НГУ. Основное внимание уделяется волновым процессам в идеальной бесстолкновительной плазме. Приведен вывод дисперсионного соотношения для волн малой амплитуды, рассмотрены неустойчивости, вызванные отклонением функции распределения от максвелловской. Также обсуждаются модели, описывающие волны конечной амплитуды, такие как нелинейное затухание Ландау и квазилинейная диффузия.
Доп.точки доступа:
Сковородин, Д. И.
Черноштанов, И. С.
Тимофеев, И. В.
Коллективные явления в плазме. Курс лекций : учебное пособие / Тимофеев И. В. - Новосибирск : Новосибирский государственный университет, 2024. - 78 с. - ISBN 978-5-4437-1627-5 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
| УДК |
Кл.слова (ненормированные):
волновые процессы -- дисперсионное отношение -- замагниченная плазма -- квазилинейная теория -- кинетическое уравнение -- колебания -- коллективные явления -- незамагниченная плазма
Аннотация: Пособие содержит конспект лекций по курсу «Коллективные явления в плазме», читаемого студентам 4-го курса кафедры физики плазмы Новосибирского государственного университета. Спецкурс предполагает знакомство слушателей с программой предшествующих теоретических курсов кафедры – «Введение в физику плазмы» и «Магнитная гидродинамика», а также опирается на материалы курсов «Физика сплошных сред» и «Электродинамика» ФФ НГУ. Основное внимание уделяется волновым процессам в идеальной бесстолкновительной плазме. Приведен вывод дисперсионного соотношения для волн малой амплитуды, рассмотрены неустойчивости, вызванные отклонением функции распределения от максвелловской. Также обсуждаются модели, описывающие волны конечной амплитуды, такие как нелинейное затухание Ландау и квазилинейная диффузия.
Доп.точки доступа:
Сковородин, Д. И.
Черноштанов, И. С.
2.
Подробнее
152105
Физика термоядерного реактора. Инжекция вещества в плазму установок с магнитным удержанием : учебное пособие / Сергеев В. Ю. - Санкт-Петербург : Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого, 2024. - 141 с. - ISBN 978-5-7422-8724-7 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
ББК 22.333
Кл.слова (ненормированные):
инжекция вещества -- магнитное удержание -- термоядерный реактор -- физика
Аннотация: Учебное пособие посвящено обзору современных исследований инжекции вещества в установки термоядерного синтеза. Основное внимание в нем уделено технологиям ввода топлива в токамаки, задаче смягчения последствий возбуждения в них периферийных МГД-мод, а также проблемам большого срыва разряда и смягчения его последствий с использование макрочастиц. Предназначено для студентов старших курсов, обучающихся по направлениям подготовки 16.04.01 «Техническая физика» и 03.04.02 «Физика» со специализацией в области физики плазмы и создания устройств для ее получения и удержания.
Доп.точки доступа:
Сергеев, В. Ю.
Капралов, В. Г.
Шаров, И. А.
Тимохин, В. М.
Физика термоядерного реактора. Инжекция вещества в плазму установок с магнитным удержанием : учебное пособие / Сергеев В. Ю. - Санкт-Петербург : Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого, 2024. - 141 с. - ISBN 978-5-7422-8724-7 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
| УДК |
Кл.слова (ненормированные):
инжекция вещества -- магнитное удержание -- термоядерный реактор -- физика
Аннотация: Учебное пособие посвящено обзору современных исследований инжекции вещества в установки термоядерного синтеза. Основное внимание в нем уделено технологиям ввода топлива в токамаки, задаче смягчения последствий возбуждения в них периферийных МГД-мод, а также проблемам большого срыва разряда и смягчения его последствий с использование макрочастиц. Предназначено для студентов старших курсов, обучающихся по направлениям подготовки 16.04.01 «Техническая физика» и 03.04.02 «Физика» со специализацией в области физики плазмы и создания устройств для ее получения и удержания.
Доп.точки доступа:
Сергеев, В. Ю.
Капралов, В. Г.
Шаров, И. А.
Тимохин, В. М.
3.
Подробнее
132621
Тренькин, А. А.
Микроструктура импульсных разрядов в воздухе : монография / Тренькин А. А. - Саров : Российский федеральный ядерный центр – ВНИИЭФ, 2022. - 235 с. - ISBN 978-5-9515-0518-7 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
ББК 22.333
Кл.слова (ненормированные):
высоковольтный разряд -- газоразрядный процесс -- импульсный разряд -- физическая модель
Аннотация: Представлены результаты исследований высоковольтных разрядов наносекундного и микросекундного диапазонов длительности в воздухе атмосферного давления: бесстримерного, искрового, диффузного и барьерного. Основное внимание сосредоточено на изучении пространственной структуры разных типов разрядов, при этом связующей нитью является наличие микроструктуры, когда разряд реализуется в виде совокупности большого количества каналов (филаментов) микронного диаметра. Вместе с тем, взаимоувязанным в рассмотрении оказывается широкий круг газоразрядных процессов, включающих плазменные, газодинамические, радиационные. Изложены экспериментальные данные и описаны физические модели, позволяющие объяснить основные наблюдаемые явления. Проведены аналогии с процессами формирования упорядоченных структур различной физической природы. Книга ориентирована на научно-технических работников в области физики газового разряда и импульсной электрофизики, а также студентов и аспирантов соответствующих специальностей.
Тренькин, А. А.
Микроструктура импульсных разрядов в воздухе : монография / Тренькин А. А. - Саров : Российский федеральный ядерный центр – ВНИИЭФ, 2022. - 235 с. - ISBN 978-5-9515-0518-7 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
| УДК |
Кл.слова (ненормированные):
высоковольтный разряд -- газоразрядный процесс -- импульсный разряд -- физическая модель
Аннотация: Представлены результаты исследований высоковольтных разрядов наносекундного и микросекундного диапазонов длительности в воздухе атмосферного давления: бесстримерного, искрового, диффузного и барьерного. Основное внимание сосредоточено на изучении пространственной структуры разных типов разрядов, при этом связующей нитью является наличие микроструктуры, когда разряд реализуется в виде совокупности большого количества каналов (филаментов) микронного диаметра. Вместе с тем, взаимоувязанным в рассмотрении оказывается широкий круг газоразрядных процессов, включающих плазменные, газодинамические, радиационные. Изложены экспериментальные данные и описаны физические модели, позволяющие объяснить основные наблюдаемые явления. Проведены аналогии с процессами формирования упорядоченных структур различной физической природы. Книга ориентирована на научно-технических работников в области физики газового разряда и импульсной электрофизики, а также студентов и аспирантов соответствующих специальностей.
4.
Подробнее
134308
Каренгин, А. Г.
Физика и техника высокочастотной газоразрядной плазмы. Лабораторный практикум : учебное пособие / Каренгин А. Г. - Томск : Томский политехнический университет, 2022. - 87 с. - ISBN 978-5-4387-1105-6 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
ББК 22.333
Кл.слова (ненормированные):
воздушная плазма -- высокочастотная плазма -- газоразрядная плазма -- генератор -- факельный плазмотрон -- физика
Аннотация: В пособии представлены учебно-методические указания к проведению лабораторных работ, посвященных изучению устройства и правил эксплуатации высокочастотного генератора ВЧГ8–60/13, определению и оптимизации газодинамических и теплофизических параметров потоков воздушной плазмы, генерируемых высокочастотным факельным плазмотроном в составе плазменной установки. Предназначено для студентов, обучающихся по направлению 14.03.02 «Ядерные физика и технологии», профиль «Физика кинетических явлений».
Доп.точки доступа:
Новоселов, И. Ю.
Тихонов, А. Е.
Каренгин, А. Г.
Физика и техника высокочастотной газоразрядной плазмы. Лабораторный практикум : учебное пособие / Каренгин А. Г. - Томск : Томский политехнический университет, 2022. - 87 с. - ISBN 978-5-4387-1105-6 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
| УДК |
Кл.слова (ненормированные):
воздушная плазма -- высокочастотная плазма -- газоразрядная плазма -- генератор -- факельный плазмотрон -- физика
Аннотация: В пособии представлены учебно-методические указания к проведению лабораторных работ, посвященных изучению устройства и правил эксплуатации высокочастотного генератора ВЧГ8–60/13, определению и оптимизации газодинамических и теплофизических параметров потоков воздушной плазмы, генерируемых высокочастотным факельным плазмотроном в составе плазменной установки. Предназначено для студентов, обучающихся по направлению 14.03.02 «Ядерные физика и технологии», профиль «Физика кинетических явлений».
Доп.точки доступа:
Новоселов, И. Ю.
Тихонов, А. Е.
5.
Подробнее
93367
Берлин, Е. В.
Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения : учебное пособие / Берлин Е. В. - Москва : Техносфера, 2018. - 464 с. - ISBN 978-5-94836-519-0 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
ББК 22.333
Кл.слова (ненормированные):
высокоплотная плазма -- индуктивные источники -- ионный ток -- плотность плазмы -- электрод
Аннотация: Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,01-0,04 мкм. Для технологии изготовления изделий с микро и наноэлементами использование ВЧ разряда индуктивно связанной плазмы (ICP) как плазмообразующего источника предоставляет большие преимущества. В частности, с его помощью достигают высокую плотность плазмы (10¹¹-10¹² см‾³), минимальный разброс ионов по энергиям (Δei ≤ 5 эВ), относительно низкое рабочее давление (10‾²2÷10‾¹ Па) и низкую энергетическую цену иона (30÷80) эВ/ион. Благодаря отсутствию накаливаемых узлов источник ICP обладает большим ресурсом работы с химически активными газами. Особенно важно, что он предоставляет возможность независимого управления энергией и плотностью потока ионов, поступающих на подложку. Успехи в конструировании источников ЮР для целей микроэлектроники побудили разработчиков оборудования применить их и в других отраслях, например в азотировании стальных деталей, обработке полимерных пленок и нанесении специальных покрытий методами PVD и PECVD. За последнее десятилетие источники ICP нашли широкое промышленное применение, о котором появилось большое количество новой информации. Поэтому назрела необходимость составления обзора, цель которого — систематизация основных экспериментальных результатов разработки и применения источников ICP. В книге приведено описание принципов действия, особенностей и преимуществ источников ICP и рассмотрены многочисленные варианты конструкций современных источников ICP Приведены также примеры технологических применений описываемых источников для нанесения тонких пленок: в процессах PVD и PECVD. И кроме того, описано формирование плазмохимическим травлением трехмерных структур в различных материалах и двумерных структур в тонких пленках и связанное с такой обработкой существенное изменение свойств поверхностей различных материалов, в особенности полупроводников. Таким образом, настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по конструкциям и применению источников ICP Книга рассчитана на студентов, аспирантов, конструкторов нового технологического оборудования, использующего источники ICP, и технологов, работающих на таком оборудовании. Конструкторы найдут в ней обзор способов достижения высоких параметров источников ICP, а технологи ознакомятся с широким спектром их применения и полученных с их помощью достижений. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
Доп.точки доступа:
Григорьев, В. Ю.
Сейдман, Л. А.
Берлин, Е. В.
Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения : учебное пособие / Берлин Е. В. - Москва : Техносфера, 2018. - 464 с. - ISBN 978-5-94836-519-0 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
| УДК |
Кл.слова (ненормированные):
высокоплотная плазма -- индуктивные источники -- ионный ток -- плотность плазмы -- электрод
Аннотация: Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,01-0,04 мкм. Для технологии изготовления изделий с микро и наноэлементами использование ВЧ разряда индуктивно связанной плазмы (ICP) как плазмообразующего источника предоставляет большие преимущества. В частности, с его помощью достигают высокую плотность плазмы (10¹¹-10¹² см‾³), минимальный разброс ионов по энергиям (Δei ≤ 5 эВ), относительно низкое рабочее давление (10‾²2÷10‾¹ Па) и низкую энергетическую цену иона (30÷80) эВ/ион. Благодаря отсутствию накаливаемых узлов источник ICP обладает большим ресурсом работы с химически активными газами. Особенно важно, что он предоставляет возможность независимого управления энергией и плотностью потока ионов, поступающих на подложку. Успехи в конструировании источников ЮР для целей микроэлектроники побудили разработчиков оборудования применить их и в других отраслях, например в азотировании стальных деталей, обработке полимерных пленок и нанесении специальных покрытий методами PVD и PECVD. За последнее десятилетие источники ICP нашли широкое промышленное применение, о котором появилось большое количество новой информации. Поэтому назрела необходимость составления обзора, цель которого — систематизация основных экспериментальных результатов разработки и применения источников ICP. В книге приведено описание принципов действия, особенностей и преимуществ источников ICP и рассмотрены многочисленные варианты конструкций современных источников ICP Приведены также примеры технологических применений описываемых источников для нанесения тонких пленок: в процессах PVD и PECVD. И кроме того, описано формирование плазмохимическим травлением трехмерных структур в различных материалах и двумерных структур в тонких пленках и связанное с такой обработкой существенное изменение свойств поверхностей различных материалов, в особенности полупроводников. Таким образом, настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по конструкциям и применению источников ICP Книга рассчитана на студентов, аспирантов, конструкторов нового технологического оборудования, использующего источники ICP, и технологов, работающих на таком оборудовании. Конструкторы найдут в ней обзор способов достижения высоких параметров источников ICP, а технологи ознакомятся с широким спектром их применения и полученных с их помощью достижений. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
Доп.точки доступа:
Григорьев, В. Ю.
Сейдман, Л. А.
Страница 1, Результатов: 5